Требования к режимам функционирования



Министерство образования и науки

Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования

«Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н.Ельцина»

Кафедра электронного машиностроения

 

 

Оценка РГР:

 

Система управления линиями фотолитографии

Техническое задание

Расчетно-графическая работа №1

по дисциплине «Проектирование автоматизированных систем»

 

 

Руководитель доц, к.т.н.   Тихонов И.Н.
Студент Группы М-490502   Лямин К.В.

 

 

Екатеринбург
2013

Аннотация

 

Задачей данной расчетно-графической работы является создание технического задания для разработки системы управления линиями фотолитографии.Расчетно-графическая работа выполняется согласно СТП УПИ-96. Техническое задание оформляется в соответствии с ГОСТ 34.602-89.

 


 

Оглавление

 

Аннотация. 2

Оглавление. 3

Обоснование параметров и требований ТЗ. 5

Техническое задание. 6

Сводная таблица технико-экономических параметров ТЗ. 8

 


 

Задание

 

Система управления линиями фотолитографии.

Система управления предназначена для управления треками нанесения и проявления фоторезиста, обработки в парах адгезива, гидромеханической отмывки и построена на современной элементной базе. 

Система осуществляет мониторинг прохождения пластин по циклу обработки и обеспечивает остановку при выходе параметров технологического процесса за установленные границы.

Технические данные:

1. Частота вращения центрифуги 500…10000 мин-1 ± 5%(КР). Задается с шагом 100 мин-1.

2. Ускорение частоты вращения до 50000 мин-1 *с –1. Задается с шагом 1000 мин-1 *с –1.

3. Диапазон регулирования времени технологических операций 0.1…99.9 с.

4. Диапазон регулирования температуры плитки 40…80± 3 °C; 81…250 ± 1 °C .

5. Отображение фактических параметров на индикаторе.

 

Рис. 1 - линия фотолитографии.

 


 

Обоснование параметров и требований ТЗ

 

Создаем два диапазона температур для различной технологии литографии. Первый диапазон от 40 до 80 0С с погрешностью ±30С. Второй диапазон от 81 до 250с погрешностью ±10С.


 

Техническое задание

Общие сведения

Наименование системы

Система управления линиями фотолитографии

Основания для проведения работ

Выполнение курсового проекта по дисциплине «проектирование автоматизированных систем»

 

Назначение и цели создания (развития) системы

Назначение системы

Система управления линиями фотолитографии предназначена для управления треками нанесения и проявления фоторезиста, обработки в парах адгезива, гидромеханической отмывки и построена на современной элементной базе. Треки агрегатируются с установками кондуктивной сушки Система управления обеспечивает как автономную работу треков, так и построение на их основе различных по конфигурации технологических линий.

Цели создания системы

Система управления линиями фотолитографии создается с целью:

- Мониторинга прохождения пластин по циклу обработки и обеспечения остановки в типовых аварийных ситуациях: обрыв пассиков, сбой шага приемной кассеты, выход параметров технологического процесса за установленные границы.

- Возможностью управления линией фотолитографии с клавиатуры, хранение и выполнение до 16-ти различных технологических процессов.

Характеристики объекта автоматизации

Краткие сведения об объекте автоматизации

Установка предназначена для нанесения, проявления фоторезиста методом ценрифугирования с последующей сушкой на кондуктивной плите полупроводниковых пластин диаметром 76, 100 и 125 мм.Установка функционирует полностью в автоматическом режиме, что называется из "кассеты в кассету".

Параметры, необходимые для проведения технологического процесса задаются с помощью клавиатуры и отображаются на двух - строчном текстовом жидкокристаллическом дисплее. Заданные параметры сохраняются в памяти управляющего контроллера и автоматически восстанавливаются после подачи питания на установку. В памяти установки можно сохранить до шестнадцати групп параметров (программ обработки пластин), что позволяет быстро перенастроить установку для проведения того или иного технологического цикла. Предусмотрена возможность подбора оптимального технологического процесса, включающего многоэтапное проявление и сушку пластин (до 24 этапов), в том числе нанесение на неподвижной центрифуге.

Требования к системе

Для передачи информации для человека о работе установки должна использоваться индикация. Возможность установки на любую машину. Система должна обеспечивает как автономную работу треков (например, автономная сушка или установка автономного нанесения), так и построение на их основе различных по конфигурации технологических линий.

Система должна производить:

- диагностику работоспособности установки;

- автоматическое поддержание технологических параметров процесса по загруженной заданной программе, обеспечение стабильности и воспроизводимости параметров;

- мониторинг технологического процесса в реальном масштабе времени (прохождение пластины по циклу обработки, индикацию реальных технологических параметров и времени протекания процесса обработки объектов);

- световую индикацию (трехцветный светофор) выполнения технологического процесса;

- возможность аварийного отключения установки при аварийных ситуациях (обрыв пассиков, сбой шага приемной кассеты, выход параметров технологического процесса за установленные границы).

-

Требования к режимам функционирования

Система должна поддерживать следующие режимы функционирования:

- Основной режим, в котором система выполняет все свои основные функции.

- Профилактический режим, в котором система не выполняет своих функций.

В основном режиме функционированиясистема должна обеспечивать:

- работу в режиме – 16 часов в день, 7 дней в неделю;

- выполнение своих функций.

В профилактическом режимесистема должна обеспечивать возможность проведения следующих работ:

- техническое обслуживание;

- устранение аварийных ситуаций.


Дата добавления: 2018-08-06; просмотров: 323; Мы поможем в написании вашей работы!

Поделиться с друзьями:






Мы поможем в написании ваших работ!